碳化硅材料具有硬度大、耐磨损、弹性模量高等特性，目前，国内碳化硅冶炼及粉体主要用于耐火材料、磨料磨具、精细陶瓷的SiC粉体等。
研磨盘主要应用于高速研磨和抛光的工程中，像半导体行业和光伏产业，主要应用于大规模集成电路硅基片和光伏产业中硅片的抛光。以前生产中使用量比较多的是铸铁或钢研磨盘，但铸铁或碳钢材料，其使用寿命短、热膨胀系数大，随着碳化硅陶瓷耐磨材料的发展和和烧结工艺的开发，铸铁和钢研磨盘逐渐被碳化硅研磨盘所代替。
碳化硅研磨盘和铸铁或钢研磨盘相比，热膨胀系数小、强度大、硬度高、使用寿命长、成本低，且热膨胀系数与硅晶片基本相同，在高速的研磨和抛光过程中，可以保证硅片的加工精度。
近年来，光伏行业中硅片的尺寸越来越大，对研磨盘的质量和研磨效率要求越来越高。利用碳化硅研磨盘可以解决研磨和抛光的高要求，提高研磨质量和效率。碳化硅具有一系列优良性能，并且价格低廉，碳化硅陶瓷所具备的这些优良性能使其可以应用在金属耐磨材料或高分子耐磨材料不能胜任的场所，在耐磨领域中展示着重要的应用前景。
